簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "氧".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="反應式離子束濺鍍"


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    反應式離子束濺鍍法沉積之氧化銅/氧化亞銅薄膜特性分析
    • 電子工程系 /101/ 碩士
    • 研究生: 林勇辰 指導教授: 黃鶯聲 趙良君
    • 此研究以反應式離子束濺鍍法於SiO2/Si基版及石英基板上沉積氧化銅/氧化亞銅薄膜,探討氬/氧流量及基板溫度對所沉積氧化銅/氧化亞銅薄膜之影響。研究結果顯示在300℃或400℃所沉積之氧化銅/氧化亞…
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    • 全文公開日期 2018/06/19 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    P-型尖晶石結構氧化鈷及氧化鈷銅薄膜之沉積及特性分析
    • 電子工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 黃鴻志 指導教授: 趙良君
    • 本研究成功利用陽極層離子源之反應式離子束濺鍍沉積氧化鈷與氧化鈷銅薄膜,薄膜分別於製程溫度150℃與300℃下以不同氧氣流量比沉積於矽基板與石英基板上,實驗結果顯示,於150℃下沉積之薄膜皆屬非晶薄膜…
    • 點閱:337下載:0
    • 全文公開日期 2022/04/10 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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